2010年01月
中国に100%出資の子会社、武漢成碩軟件開発有限公司(連結子会社)を設立
2009年11月
資本金を94億8592万円に増資
2009年11月
東京証券取引所マザーズ市場に上場
2009年07月
資本金を68億4667万円に増資
2008年08月
資本金を60億935万円に増資
2008年05月
300mmエッチング装置Cygnusシリーズの販売を開始
2007年01月
表面酸窒化装置XORSシリーズの販売を開始
2006年12月
資本金を50億6512万円に増資
2006年10月
米国に100%出資の子会社、FOI TECHNOLOGIES CORPORATION
(現・連結子会社)を設立
2006年05月
300mmライトエッチング装置GARUDAシリーズの販売を開始
2005年11月
300mmアッシング装置Rydeen-7000シリーズの販売を開始
2005年10月
300mmエッチング装置STELLAシリーズの販売を開始
2005年06月
200mmライトエッチング装置Rydeen-6000シリーズの販売を開始
2005年05月
200mmアッシング装置Rydeen-5000シリーズの販売を開始
2005年04月
300mmライトエッチング装置Rydeen-10000シリーズの販売を開始
2005年02月
150/200mmエッチング装置SE-1000シリーズの販売を開始
2005年01月
町田テクノロジーセンターを閉鎖し、本社に統合
2004年11月
本社を相模原市小山に移転し、同所にテクノロジーセンターを開設
2004年11月
韓国に100%出資の子会社、FOI KOREA CORPORATION
(現・連結子会社)を設立
2004年07月
資本金を30億6690万円に増資
2004年03月
東京都町田市に町田テクノロジーセンター開設
2003年08月
資本金を14億2700万円に増資
2003年05月
資本金を13億6350万円に増資
2003年04月
300mmエッチング装置SE-4000シリーズの販売を開始
2002年05月
台湾に100%出資の子会社、東來科技股份有限公司
(現・連結子会社)を設立
2002年03月
資本金を8億9550万円に増資
2000年12月
資本金を6億4550万円に増資
2000年12月
300mmエッチング装置SE-3000の販売を開始
2000年09月
本社を麻生区柿生に移転し、同所にテクノロジーセンターを開設
2000年06月
4~8インチウエハ用マイクロ波プラズマアッシング装置VA-1000の販売を開始
1999年12月
300mmウエハ用マイクロ波プラズマアッシング装置VA-3000の販売を開始
1998年12月
資本金を1億4550万円に増資
1998年08月
200mmマイクロ波プラズマアッシング装置VA-2000の販売を開始
1998年08月
資本金を5550万円に増資
1998年07月
資本金を4000万円に増資
1997年03月
株式会社神戸製鋼所と共同で、300mm絶縁膜エッチング装置の開発に着手
1996年04月
中小企業創造活動促進法の認定を受ける
1995年08月
FR-J1型クリーンロボット発表
1995年03月
MN-Z型マニュアルプロ-バ発表
1994年10月
かながわサイエンスパーク内に会社を設立。資本金1000万円