Company History
2010 년 1월
중국에 100% 출자의 자회사, 武漢成碩軟件開発有限公司(연결자회사)를 설립.
2009年11月
자본금을94억8592만 엔으로 증자
2009년11월
도쿄증권(東京證券) 거래소 마더스(mothers)시장에 상장
2009년 7월
자본금을 68억 4667만 엔으로 증자
2008년 8월
자본금을 60억 935만 엔으로 증자
2008년 5월
300mm Etching 장비 Cygnus시리즈 판매 개시
2007년 1월
표면산소화 장비 XORS 시리즈 판매 개시
2006년12월
자본금을 50억 6512만 엔으로 증자
2006년10월
미국에 100% 출자 자회사 FOI TECHNOLOGIES CORPORATION(현・연결자회사)를 설립
2006년 5월
300mm Light Etching 장비 GARUDA 시리즈 판매 개시
2005년11월
300mm Ashing 장치 Rydeen-7000 시리즈 판매 개시
2005년10월
300mm Etching 장비 STELLA시리즈 판매 개시
2005년 6월
200mm Light Etching 장비 Rydeen-6000시리즈 판매 개시
2005년 5월
200mm Ashing 장비 Rydeen-5000시리즈 판매 개시
2005년 4월
300mm Light Etching 장비 Rydeen-10000 시리즈 판매 개시
2005년 2월
150/200mm Etching장비 SE-1000시리즈 판매 개시
2005년 1월
마치다 테크놀로지를 폐쇄하고, 본사로 통합
2004년11월
본사를 사가미하라 오야마로 이전하고, 동소에 테크놀로지센터 개설
2004년10월
한국에 100% 출자 자회사인 FOI KOREA CORPORATION(현・연결자회사)을 설립
2004년 7월
자본금을 30억 6690만 엔으로 증자
2004년 3월
도쿄도 마치다시에 마치다 테크놀로지센터 개설
2003년 8월
자본금을 14억 2700만 엔으로 증자
2003년 5월
자본금을 13억 6350만 엔으로 증자
2003년 4월
300mm Etching 장비 SE-4000시리즈의 판매를 개시
2002년 5월
대만에 100%출자 자회사인 東來科技股份有限公司 (현・연결자회사)를 설립
2002년 3월
자본금을 8억 9950만 엔으로 증자
2000년12월
자본금을 6억 4550만 엔으로 증자
2000년12월
300mm Etching 장비 SE-3000의 판매 개시
2000년 9월
본사를 麻生区柿生로 이전하고, 동소에 테크놀로지 센터를 개설
2000년 6월
4~8인치 웨이퍼용 마이크로 웨이브 플라즈마 Ashing 장비 VA-1000의 판매 개시
1999년12월
300mm 웨이퍼용 마이크로 웨이브 플라즈마 Ashing 장비 VA-3000의 판매 개시
1998년12월
자본금을 1억 4550만 엔으로 증자
1998년 8월
200mm 마이크로 웨이브 플라즈마 Ashing 장비 VA-2000의 판매 개시
1998년 8월
자본금을 5550만 엔으로 증자
1998년 7월
자본금을 4000만 엔으로 증자
1997년 3월
㈜KOBELCO와 공동으로 300mm 절연막 Etching 장비 개발에 착수
1995년 8월
FR-J1 형 클린 로봇 발표
1995년 3월
MN-Z형 매뉴얼 프로바 발표
1994년10월
카나가와 사이언스공원내에 회사 설립. 자본금 1000만엔