• Etching 장비
  • STELLA는 FOI의 특허기술인 Groovy ICP를 이용한 300mm/8인치 Wafer 대응의 고성능 Etching 장비입니다. Groovy ICP는 세계에서 유일한 나노캡 타입 ICP플라즈마원으로 기존의 CCP 플라즈마원 및 ICP 플라즈마원의 장점을 겸한 획기적인 플라즈마원입니다. STELLA는 이 Groovy ICP 플라즈마원을 이용함에 따라 HARC, Spacer, PAD등의 각종 형태 및 High-k、Low-k막 등 각종 재료의 Etching에 대응할 수 있습니다. 프로세스 윈도우의 폭이 넓고, 광범위한 조건 설정이 가능하기 때문에 Etching Grade는 2Micron/분 ~ 1angstrom/초 (60 angstrom /분) 까지 커버할 수 있는 획기적인 성능을 보유하고 있습니다. FA(GEM、GEM300)에 완벽하게 대응하고 있습니다.