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表面酸窒化装置- XORSは、FOIの最新技術を利用した、300mmウエハ対応のバランスドICPプラズマ源装備の、シリコンウエハ表面酸窒化装置です。
高密度バランスドICPプラズマ源と、極めて清浄度の高いプロセスチャンバおよびセラミック製のサセプタとの組み合わせで、面内均一性0.5％～1.0％、平均膜厚20オングストローム以下の酸窒化膜を形成可能です。
XORSをメモリ配線工程などに用いることにより、その歩留まりを劇的に改善する事が出来ます。
FA(GEM、GEM300)に、完全に対応しております。
