• 轻蚀刻设备
  • Rydeen6800，是在利用了FOI的最新技术面向6英寸/8英寸的光刻胶剥离装置Rydeen5200的基础上，追加了平衡性ICP等离子体源及阴偏压(RIE)的轻蚀刻法装置。Rydeen6800拥有值得骄傲的世界最快搬送能力(210片/每小时以上)、高密度平衡性ICP等离子体源、及在FOI蚀刻设备中拥有诸多骄人成绩的低温阴极和RF偏压的组合，得以应用于后工程的轻蚀刻、摄像器件的光刻胶整形及塑料透镜整形、铜线路上的光刻胶蚀刻、Low-k膜的蚀刻等最新的制程工艺。也可完全满足FA(GEM、GEM300)要求。


    Rydeen10000，是装备了平衡性ICP等离子体源及阴偏压(RIE)，利用了FOI最新技术的面向300mm/8英寸的轻蚀刻设备。Rydeen10000拥有高密度平衡性ICP等离子体源、及在FOI蚀刻中有着诸多骄人成绩的低温阴极和RF偏压的组合，得以应用于后工程的轻蚀刻、摄像器件的光刻胶整形及塑料透镜整形、铜线路上的光刻胶蚀刻、Low-k膜的蚀刻等最新的制程工艺。也可完全满足FA(GEM、GEM300)要求。