• 蚀刻设备
  • STELLA，是利用了作为FOI专利技术的GroovyICP来处理300mm/8英寸的高性能蚀刻装置。GroovyICP ，是世界唯一的狭窄间隙型ICP等离子体源，兼备以前的CCP等离子体源及ICP等离子体源的长处，是具有划时代意义的等离子体源。
    STELLA，利用GroovyICP等离子体源，可应用于HARC、Spacer、PAD等各种形状及High-k、Low- k各种材料薄膜的蚀刻。制程窗口宽，条件设定范围大，使得蚀刻法速率划时代的涵盖2微米/分钟～1埃/秒（60埃/分钟）的宽广范围。 可完全满足FA(GEM、GEM300)要求。